MAiA ist eine Weiterentwicklung der SiNA-Serie für die Umsetzung neuer Zelltechnologien und die Einführung neuer Produktionssschritte.

Zu den Anwendungen zählen die Rückseitenpassivierung, die Herstellung von Gradienten- und Mehrlagenschichten (z.B. SiNx + SiOy) sowie Plasmaätztechnologien für Textur oder PSG-Entfernung. Der modulare Aufbau der Anlagen ermöglicht auch die Kombination verschiedener Plasmaprozesse in einer Anlage wie beispielsweise einer Standard-Antireflexbeschichtung der Frontseite mit einer Beschichtung der Waferrückseite für deren Passivierung.

Bezüglich Durchsatz und Waferhandling sind MAiA-Anlagen mit den SiNA-Anlagen vergleichbar.