News:   31.03.2010
Erster Nachhaltigkeitsbericht der Roth & Rau...
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Ad-hoc-Meldungen:   10.02.2010
Roth & Rau AG: 1.379.999 Aktien mit einem...
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Pressemitteilung:   13.08.2010
Roth & Rau AG schließt erstes Halbjahr 2010 erfolgreich ab...
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01 High Tech für Oberflächen
 
 
Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen
 
     
ICP 400

ICP-Quelle

PRINZIP

• induktiv gekoppelte RF-Plasmaquelle

EINSATZBEREICHE

• RIE mit Flour- und Chlorchemie
• PECVD (insbesondere Isolatorschichten)
• in Kombination mit RF-Bias oder ohne Bias

SPEZIFIKATION

• Anbauquelle mit Flansch
• Durchmesser 400 mm
• 4 Planarantennen mit Leistungsteilern, Quarzglas-Koppelfenster
• RF-Leistung max. 2.5 kW



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