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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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100% |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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| Australia Pty Ltd. |
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| USA Inc. |
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100% |
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| India Pvt. Ltd. |
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100% |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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PRINZIP
• durch Elektronen-Zyklotron-Resonanz angeregte Mikrowellen-Plasmaquellen
EINSATZBEREICHE
• RIE mit Flour- und Chlorchemie
• PECVD (insbesondere Isolatorschichten)
• in Kombination mit RF-Bias oder ohne Bias
SPEZIFIKATION
• kompakte Anbauquellen mit Flansch, auch als UHV-kompatible Versionen lieferbar
• Durchmesser der Plasmakammer 160 / 250 mm
• Patentiertes Magnetfelddesign mit kompaktem Elektro- oder Permanentmagnet auf dem Quellendeckflansch
• Kompakter Mikrowellengeneratorkopf mit Autotuning
• Mikrowellenleistung max. 0,8 / 1,2 kW
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 Seitenanfang
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Karriere |
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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