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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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| Australia Pty Ltd. |
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| USA Inc. |
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| India Pvt. Ltd. |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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Kaufman-Ionenquellen
PRINZIP
• Plasmaanregung mittels Niederdruckbogenentladung mit Glühkatode (Filament)
EINSATZBEREICHE
• Ion Milling (IBE) mit Inertgasen sowie ionenstrahlgestützte Abscheidung dünner Schichten (IBS, IBAD)
SPEZIFIKATION
• UHV-kompatible und kompakte Ionenquelle
• als Anbauversion mit Flansch oder Einbauversion lieferbar
• Strahldurchmesser 40 mm mit homogenem und kollimiertem Strahlprofil
• Ionenstrahlparameter: max. 2.0 keV, 100 mA
• Wolfram-Filament, schnell und einfach wechselbar
• Neutralisation mittels Plasma Bridge Neutralisator oder Beamschalter
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 Seitenanfang
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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