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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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100% |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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| Australia Pty Ltd. |
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| USA Inc. |
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| India Pvt. Ltd. |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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Lineare Ionenquellen
PRINZIP
• Katodenlose hocheffektive Plasmaanregung durch Elektron-Zyklotron-Resonanz (ECR), modular aufgebaute Plasmakammer
EINSATZBEREICHE
• großflächiges, reaktives und chemisch gestütztes Ionenstrahlätzen (RIBE, CAIBE) sowie großflächige, ionenstrahlgestützte Abscheidung dünner Schichten (IBS, IBAD) oder In-line-Prozesse
SPEZIFIKATION
• Anbau-Ionenquelle mit Rechteck-Flansch
• Strahlbreite skalierbar von 400 mm bis 2000 mm
• Ionenstrahlparameter: max. 2.0 keV, > 700 mA
• Neutralisation mittels Plasma Bridge Neutralisator oder Beamschalter
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Seitenanfang
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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