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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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100% |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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| Australia Pty Ltd. |
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| USA Inc. |
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| India Pvt. Ltd. |
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100% |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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PRINZIP
• Mikrowellen-Plasmaquellen für den Einsatz im Feinvakuumbereich (10-2…1 mbar)
EINSATZBEREICHE
• PECVD (insbesondere Isolatorschichten)
• RIE mit Fluorchemie
• in Kombination mit RF-Bias oder ohne Bias
SPEZIFIKATION
• Einbauquellen mit gegenüberliegenden Flanschen an beiden Seiten der Prozesskammer
• Breite anpassbar auf die Kammerdimensionen von 300 mm bis ca. 1500 mm
• Permanentmagnetfeld
• Mikrowelleneinkopplung über ein Quarzfenster
• Integrierte Gasduschen für homogene Gasverteilung
• Kompakte Mikrowellengeneratoren, jeweils 1,2…3 kW
• für CW- und Pulsbetrieb
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 Seitenanfang
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Karriere |
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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