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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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100% |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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| Australia Pty Ltd. |
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100% |
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| USA Inc. |
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100% |
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| India Pvt. Ltd. |
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100% |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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Plasmaquellen bilden die Kernkomponenten von Plasmaprozesssystemen. Von Beginn an wurde bei Roth & Rau der Quellenentwicklung besondere Aufmerksamkeit gewidmet. Das Portfolio umfasst eine 300mm ICP-Quelle, verschiedene Typen ECR-Plasmaquellen und lineare mikrowellenangeregte Plasmaquellen für großflächige und In-line-Plasmaprozesse.
ECR-Plasmaquellen und ICP-Quellen haben gleichermaßen hervorragende Eigenschaften wie:
• Hoher Ionisierungsgrad und hohe Dichten an Ionen, Radikalen, angeregten und dissoziierten Teilchen bei gleichzeitig niedrigem Arbeitsdruck im Bereich <10-3…0,1 mbar
• Keine Einschränkungen bezüglich der Verwendung reaktiver und korrosiver Prozessgase
• Eignung für viele RIE- und PECVD-Verfahren, Oberflächenmodifizierung und -reinigung
Die ECR-Plasmaquellen von Roth & Rau zeichnen sich auf Grund ihres spezifischen Designs aus durch:
• Kompakte Bauform oder Ausführung als Linearplasmaquelle
• geringes Gewicht
• beliebige Einbaulage
• hohe Prozessstabilität (kein Hohlraumresonatorkonzept, kein „Mode-Hopping“)
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Karriere |
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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