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Roth & Rau AG |
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| Dünnschicht Solar GmbH |
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100% |
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| Roth & Rau Microsys. GmbH |
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100% |
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| CTF Solar GmbH |
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100% |
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| Shanghai Trading Co. Ltd. |
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100% |
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| Singapore Pte. Ltd. |
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100% |
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| Korea Co. Ltd. |
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100% |
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| Switzerland AG |
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100% |
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| Australia Pty Ltd. |
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100% |
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| USA Inc. |
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100% |
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| India Pvt. Ltd. |
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100% |
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01 |
High Tech für Oberflächen
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Innovative Produkte und Technologien für zukunftsorientierte Anwendungen |
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• Chlorchemie
• Niedrige Bias bis 250 V
• Typische Ätzraten für GaN bis 400 nm/min und für GaAlN bis 150 nm/min
Referenz:
mit freundlicher Genehmigung TU Ilmenau, ZNM
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 Seitenanfang
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Courtesy of University of Kaiserslautern, Integrated Optics and Microoptics, Physics Department
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• 13,56 MHz Parallelplattenreaktor
• Chlorchemie
• Ätzraten 180...200 nm/min
Referenz:
Universität Kaiserslautern, Integrierte Optik und Mikrooptik, Fachbereich Physik
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Seitenanfang
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Courtesy of Walter-Schottky-Institute, Munich
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Courtesy of Walter-Schottky-Institute, Munich
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• ECR RIE mit RF-bias (13,56 MHz)
• Chlorchemie
• Ätzrate 500...3600 nm/min bei glatter Oberfläche
Referenz:
Walter-Schottky-Institut, München
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Seitenanfang
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Reactive Ion Etching of SiC / Si with high aspect ratio and smooth surface
Silizium / Siliziumkarbid Nano- und Mikrostrukturen
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Sensors for viscosity measurement in liquids
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Micro pipes
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Micro-Pipes
Die Micro-Pipes realisieren einen Dosierkopf für kleinste wasser-basierende Flüssigkeitsmengen im nl-Bereich. Der Innendurchmesser beträgt 1 µm, die Länge 10 µm und die Seitenwände sind 500 nm dünn.
Sensoren für die Viskositätsmessung in Flüssigkeiten
Die NEMS-Strukturen bestehen aus einem 250 nm, in der Länge variierenden 2 – 240 µm, dünnen Resonatorbalken bestehend aus 200 nm SiC und 50 nm Metallisierung.
Ätzen von SiC / Si Strukturen mit hohen Aspektverhältnis und glatter Oberfläche
Für Anwendungen bei der Herstellung von Wellenleitern für Anwendungen in der Optik und Kommunikationstechnik
Referenz:
Technische Universität Ilmenau, Zentrum für Mikro- und Nanotechnologie
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Seitenanfang
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Dry textured silicon surface (courtesy of Fraunhofer-ISE)
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• Für die trockene Texturierung von Solarzellenwafern und für die Phosphorglasentfernung
• In-line-Prozess mit Mittelfrequenzplasmaquellen
• Fluorchemie
• PSG-Ätzrate 20…100 nm/min
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Seitenanfang
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Karriere |
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Events |
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13.-17.09.2010 |
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PSE (Roth & Rau MicroSystems GmbH)
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